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商品櫥窗
商品明細
Quantima ICP-OES 感應耦合電漿原子發射光譜儀
料號:99-0552-00
GBC Quantima Inductively Coupled Plasma Spectrometer
商品詳細介紹
Product Introduction
商品
規格
配件
應用
訂購資訊
GBC依循著卓越和工業技術的悠久傳統。製造堅固及精準的Quantima ICP。無論何種應用,Quantima都能比以往更快,更準確,更經濟地分析!
Quantima提供許多新的創新功能,包括Plasma Cam和PIP。獲得專利的PIP(電漿完整性保護裝置)可顯著減少"寄生電漿"或“甜甜圈形電漿”熔化火炬。電漿輪廓可以透過Plasma Cam從電腦螢幕上輕鬆觀察看。
Quantima氬氣需求非常經濟。對於一般的水溶液樣品,氬氣消耗僅11公升/分鐘,這是目前世界上商品化的ICP-OES的最低氬氣消耗量。
一.本體 :
1.光學系統:為序列式多道分光儀,並具有掃描式功能
A). 分光器:Czerny-Turner 分光器,
內建氮氣吹填可偵測真空UV區之元素(可做S、Br、I、P、B、Cl、As)
B). 光譜範圍: 160 – 800 nm
C). 解析度: 0.006 nm ,Peak-to-peak 解析度為0.0005nm
D). 焦聚長為0.75公尺
E). 光柵密度1800L/mm
2.偵測器:雙光電倍增管設計(UV光區一個,可見光區一個)
3.具有自動背景校正及掃描新元素定性,定量分析之功能.
4.可任意選擇發射譜線做為校正用參考譜線.
5.可擴充氬氣潤濕裝置,耐鹽度及選配電漿影像即時顯示,輔助離子化過程位置增加石英管壽命
6.具有內建至少20000條光譜圖譜資料庫,可隨時比較可能之干擾譜線
7.動態線性範圍至少八個級數(8 oeder)
8.可由電腦螢幕觀察Torch電漿產生狀況,避免Torch燒毀
9.Auto-optimization of viewing position—10 fold enhancement in sensitivity
10.具有MASS Flow Control,可控制氣體流速 在0.001 L/min以內,以減少氬氣的消秏成本
11.具三度空間觀測位置調整,以達最佳之精確性與再現性
二.電漿產生器RF Generator
1.頻率: 大於 40.6 MHz
2.電腦控制功率設定: 設定範圍600W~1500 W, 可以每10W 間隔設定
3.具有自動點火和功率自動調整功能
4.內建冷卻循環系統
三.樣品導入裝置
1. 具有12轉軸(或以上)式蠕動幫浦,由電腦控制轉速0~60rpm
2. 為可拆卸式免校正模組式火炬設計,以節省維護成本
3. 標準式同心式霧化器及氣旋式霧化腔,可耐氫氟酸。
4. 火炬測量具二維電腦調整位置之功能,測點垂直方向可調範圍1~24mm/ 0.1mm間隔
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